В РФ разработали устройство для создания чипов
21 Марта 2025 в 14:04
В Зеленограде разработали первую в России установку для плазмохимического осаждения. С помощью этой процедуры возможно создание микросхем.
В НИИТМ (входит в ГК «Элемент») создали установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Это один из ключевых этапов в производстве микросхем. В настоящее время опытный образец проходит последние доработки, а летом его протестируют и запустят в серийное производство.
В НИИТМ утверждают, что разработанные и проверенные технологии могут быть использованы как для существующих проектных норм, так и для перспективных, включая интегральные схемы с топологией 28 нм. Создание установки – еще один шаг к полному циклу производства микроэлектроники в России.
Устройство является модульным, что позволяет адаптировать его под конкретные производства и изменять конфигурацию для работы с пластинами 200 мм. Это позволяет тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу с пластинами диаметром 300 мм.
Источник: telegram-канал МашТех